概述

微纳光学（微米量级乃至50nm）加工能力，涉及相应的半导体制程以及超精密光学镀膜，膜层厚度精度在10nm±1nm,外观patricle 小于1微米。需研究基于包括溅射工艺、镀膜工艺、化学机械抛光工艺、纳米压印工艺在内的薄膜加工工艺，评估工艺能力，选取合适的工艺方案，形成完整的技术方案和报告，进一步搭建相关工艺条件，实现玻璃基底的高可靠性、高精度镀膜，精度50nm以下，可在-30到+80℃温度范围稳定工作。