概述

电子级气体在半导体工业中的应用主要分为两种：第一种作为化学气相沉积法制备CdS、Cr2S3、MnS等薄膜的重要前驱体。其次，羰基硫在干法刻蚀工艺中作为刻蚀剂的重要组成部分，是刻蚀无定型碳掩膜层不可或缺成分。需要进行如下应用指标的验证 1.作为无定形碳掩膜层形成的添加剂时，所形成的沟道深宽比。 2.横截面表面形貌。 3.孔洞规整性。 4.刻蚀速率。 5.最终产品良品率等指标。