概述

1）解决粒度分布集中的亚微米级金属抛光液用氧化铝粉体的制备； 2）解决金属抛光液分散稳定性差、抛光产品划痕、波浪纹、雾面等缺陷，提高合格率； 3）解决氧化铝抛光液分散稳定性差的问题，保证抛光液20天无明显不可逆沉降； 4）降低抛光液生产成本；

需求详情

1.需求解决的技术问题    1）解决粒度分布集中的亚微米级金属抛光液用氧化铝粉体的制备；   2）解决金属抛光液分散稳定性差、抛光产品划痕、波浪纹、雾面等缺陷，提高合格率；   3）解决氧化铝抛光液分散稳定性差的问题，保证抛光液20天无明显不可逆沉降；   4）降低抛光液生产成本； 2.技术需求提出背景及技术应用领域   现有的金属抛光剂品种许多，但多数剂型的溶液不稳定，光亮覆盖能力差，尤其复杂的零件或制品，存在返锈快、清洁不彻底的现象。另外，现有的化学抛光剂主要原料为强酸或磷酸盐，在抛光过程中，会产生腐蚀性气体，对工作环境造成一定的污染，不利于操作人员的身体健康。因此，亟待开发一种稳定性好、光亮覆盖能力强且清洁效果彻底的金属抛光剂产品。   3.技术难点   1）保证工件表面质量的前提下，提高抛光效率；   2）不降低生产效率，氧化铝粒度径距做到1.6以下；   3）抛光液无毒无害，易清洗；  

技术参数

 微米级金属抛光液用氧化铝粉体纯度99.9%—99.99%，粒度集中性D50≤400nm，D90≤800nm，径距＜1.6，适用于五轴抛光机及平面研磨机，配套阻尼布可以达到镜面效果，有较高的移除速率。