概述

高灵敏度高产酸效率的光致产酸剂设计研发

需求详情

需求背景：2021年我国半导体光刻胶市场规模约为33亿元，按照当前国内半导体发展趋势，预计到2025年国内半导体光刻胶市场规模将达到98亿元。KrF 和ArF在光刻胶市场占比较高，二者总占比达到70％以上。KrF和ArF光刻 胶市场需求持续攀升，带动光致产酸剂行业发展。根据新思界产业研究中心发布的《2021年全球及中国光致产酸剂(PAG)产业深度研究报告》显示：2020年，中国光致产酸剂(PAG)需求量为10. 16 吨，同比增长55. 1%。但由于行业技术门槛较高，市场被日本和美国企业占据，代表性企业有东洋化工和FJFILM,其中东洋化工是最大供应商。需求内容：目前国内尚未实现光致产酸剂规模化生产，未来市场发展潜力巨大。因此，公司需要一种高灵敏度和高产酸效率且酸性强的光致产酸剂设计及合成技术，有海外相关技术资源欢迎联系！