概述

超低微缺陷的光学镀膜技术研究

需求详情

微纳光学（微米量级乃至50nm)加工能力，涉及相应的半导体制程以及超精密光学镀膜，膜层厚度精度在10nm ±1nm,外观patricle小于1微米。需研究基于包括溅射工艺、镀膜工艺、化学机械抛光工艺、纳米压印 工艺在内的薄膜加工工艺，评估工艺能力，选取合适的工艺方案，形成完 整的技术方案和报告，进一步搭建相关工艺条件，实现玻璃基底的高可靠 性、高精度镀膜，精度50nm以下，可在-30到＋80°C温度范围稳定工作。