寻找电子束(EBL)光刻技术(设备)
概述
寻找二手电子束(EBL)光刻设备,适用于科研及小批量生产中使用,具有自动化程度高等特质的相关型号,具体设备需求参数参考详情。 需求详情: 1、主要技术参数:最小线宽8nm,套刻精度10 m 2、电子束直径:小于2nm 3、加工晶圆尺寸:适用8英寸晶元 4、品牌:JOEL、Raith、ELIONIX等 5、具体型号:Raith5200型5150型,JEOL(8100FS型)等
需求详情
寻找二手电子束(EBL)光刻设备,适用于科研及小批量生产中使用,具有自动化程度高等特质的相关型号,具体设备需求参数参考详情。需求详情:1、主要技术参数:最小线宽8nm,套刻精度10 m2、电子束直径:小于2nm3、加工晶圆尺寸:适用8英寸晶元4、品牌:JOEL、Raith、ELIONIX等5、具体型号:Raith5200型5150型,JEOL(8100FS型)等 
已过期:截止至2023-12-31
金额:100万元-1000万元