微纳加工基材“褶皱”预处理工艺
概述
1.需要了解被处理的基材的物理形变参数,材质包含硅胶,橡胶,网布,TPU,PDMS,等材质。 2.需要对基材进行预处理控制:单向拉伸,或者双向拉伸 3.需要控制幅度变化,10%,20%,30%,并控制平整度 <1%
需求详情
可伸缩电路中,为了加强可伸缩电路的稳定性,可靠性,需要针对基材进行类似“褶皱”的预处理工艺。1.需要了解被处理的基材的物理形变参数,材质包含硅胶,橡胶,网布,TPU,PDMS,等材质。2.需要对基材进行预处理控制:单向拉伸,或者双向拉伸3.需要控制幅度变化,10%,20%,30%,并控制平整度 <1%4.形变预处理需要固定手段保持,以便,喷墨工艺,点胶工艺,印刷工艺等制备机器可以进行电路制备。5.电路制备完毕,需要进行形变恢复并进行尺寸控制。恢复后形变不得超过制备前5%6.预处理设备在形变恢复后增加定形制程。使用PI膜,背胶纸等工艺进行形状固定。
已过期:截止至2023-12-31
金额:1万元-50万元