概述

需求方是一家闵行本土科技控股企业。旗下电子领域专业企业致力于为集成电路及泛半导体产业客户提供制程设备、高纯工艺系统和相关电子材料及专业服务；旗下生物领域企业致力于为生物制药、合成生物等产业提供生物反应、发酵系统、配液系统等核心装备。公司的经营战略确立为“关注核心工艺，服务关键制程”，“立志成为国内领先的工艺装备及材料提供商”，并代表本土品牌参与国际竞争。目前主要深耕电子半导体领域的检测装备设计与研发，目前受控于国外在微污染控制检测领域前沿光学技术、化学技术的限制，需要寻求在本领域内可产学研合作或者关键材料开发的项目合作。

需求详情

环境空气污染物——影响电子半导体生产制造良率的“黑手”电子半导体工业被誉为科技发展的基石，芯片虽小，却是信息产业的“智慧大脑”，也是构筑大国竞争力的核心产品之一。集成电路（芯片）产业是一个非常复杂的体系，一般分为设计芯片、制造芯片和终端测试3个板块。在芯片制造生产中，要确保每一块芯片都有品质保障，必须对每一个生产制造环节的品质进行严格把控，让每个环节生产都是高标准、高良率。以复杂的CPU芯片为例，如果每一步的良率都是99%的话，看似问题微乎其微，但这些问题累计起来的最终良率将仅0.088%（0.99700），几乎为零。只有当每步的良率为99.99%的时候（1万颗芯片里面只坏1颗），最终良率才能上升到93.24%（0.9999700）。在芯片的生产制造环境中，由于需要在纳米级别尺度生产和加工集成电路，对空气环境的洁净度要求非常高，极其微小的悬浮粒子污染就会严重影响产品的质量，即使是仅有10nm的微小粒子（也叫纳米粒子），也会大大降低产品的生产出品良率。为了保障电子半导体产品的高良率，需要对生产环境中的空气颗粒物污染进行严密监测。在半导体微控制环境下，污染监测的关键光学和化学技术主要包括光诱导力纳米红外显微镜（PiFM-IR）和傅里叶红外光谱（FTIR），而关键材料则是光催化氧化技术中使用的半导体材料。半导体材料在环境监控及治理中扮演着重要角色，特别是光催化氧化技术。这种技术通过半导体光催化材料直接将太阳能转化为化学能与电能，将环境中的有毒有害有机污染物完全矿化降解。关键在于所使用的半导体材料的性能，其组成、制备过程及结构对光催化氧化技术的效率有直接影响‌。

技术参数

如下半导体新材料的需求‌光刻胶‌：光刻胶是半导体制造过程中用于形成微型电路图案的敏感材料。在光刻机中，光刻胶被涂在晶圆上，通过曝光和显影过程，将掩膜版上的图形转移到晶圆上‌12。‌显影液‌：显影液用于处理曝光后的光刻胶，将与紫外光发生化学反应的部分除去或保留下来，从而形成所需的电路图案‌1。‌电子特气‌：电子特气是半导体工业的关键原料，主要用于晶圆制造的各个环节。这些气体的纯度和洁净度对半导体器件的质量和成品率有重要影响‌3。‌湿电子化学品‌：包括酸碱类、蚀刻类、溶剂类等，用于清洗、蚀刻等处理步骤。例如，高纯盐酸、高纯硫酸、高纯硝酸等‌4。‌抛光液和抛光垫‌：在CMP（化学机械研磨）设备中，抛光液和抛光垫用于对半导体表面进行研磨抛光，提高芯片质量‌1。这些材料在半导体污染物检测设备中起着关键作用，确保半导体制造过程中的清洁度和精度，从而影响最终产品的质量和性能。