新型光刻胶产品研发
概述
寻求新型光刻胶产品研发解决方案 1、在光刻胶产品的分辨率(resolution)、对比度(Contrast)、敏感度(Sensitivity)、粘滞性/黏度(Viscosity)、粘附性(Adherence)、抗蚀性(Anti-etching)、表面张力(SurfaceTension)等技术参数性能上提供技术支持; 2、开放实验室进行光刻胶相关样品检测、样品制作、实验验证等工作 3、提供基础的实验所需仪器设备,提供合适的场所进行数据处理等工作
需求详情
光刻胶又名光阻,是一种有机化合物,它受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。通常光刻胶由三种成份组成:(1)基体材料(也叫树脂),作为粘合剂,确定成膜的机械特性: (2)增感剂(也叫阻化剂),是一种感光的化合物(PAC);(3)溶剂(不同千显影液溶剂),使光刻胶保持液态,但涂在衬底上时会挥发掉。寻求方案解决方,提供如下技术服务:1、在光刻胶产品的分辨率(resolution)、对比度(Contrast)、敏感度(Sensitivity)、粘滞性/黏度(Viscosity)、粘附性(Adherence)、抗蚀性(Anti-etching)、表面张力(SurfaceTension)等技术参数性能上提供技术支持;2、开放实验室进行光刻胶相关样品检测、样品制作、实验验证等工作3、提供基础的实验所需仪器设备,提供合适的场所进行数据处理等工作
已过期:截止至2024-12-31
金额:15万元-20万元