概述

1.依托产学研联合实验室对关于“光酸制备技术服务”过程涉及的技术参数和性能提升等提供技术支持: 2寻求光酸制备过程涉及的样品检测、样品制作、实验验证等工作提供一定技术服务。

需求详情

光酸是一类特殊的光敏感化合物，是DUV及EUV光刻胶的核心原材料。光酸在受到特定光照时能够分解产生酸，该酸性物质导致树脂的溶解性或交联性发生变化，从而得到图案化。光酸可分为离子型和非离子型，这些小分子是通过多步化学合成及精密提纯得到的。目前主要由日美韩垄断，全球前6大市占率超过90%。尤其在中高端ArF/KrF光刻胶及更高制程领域，垄断性越强。核心主材光酸严重依赖进口，交期长、价格高、难度大，其技术突破及量产供应成为我国半导体光刻胶国产化的主要壁垒。寻求“光酸制备技术服务”解决方案具体如下:1.依托产学研联合实验室对甲方关于“光酸制备技术服务”过程涉及的技术参数和性能提升等提供技术支持2.乙方向甲方光酸制备过程涉及的样品检测、样品制作、实验验证等工作提供一定技术服务