基于半导体行业制程废气的高效处理工艺及节能降耗需求
概述
随着半导体制造工艺向3nm及以下节点升级,制程废气中的 高浓度VOCs(如异丙醇、光刻胶溶剂) 和 剧毒气体(HF、SiH₄) 处理难度激增。传统焚烧/RTO工艺存在 能耗高(>1.2kW·h/m
需求详情
研发高效 VOC 废气处理工艺,解决砷磷烷气体处理和燃烧炉能耗问题,提升热能利用率。
已过期:截止至2025-12-31
金额:10.0万元-50.0万元