概述

随着半导体产业的快速发展，对半导体制造设备的精度和可靠性提出了更高的要求。气体供应系统作为半导体制造过程中的关键环节，直接影响到产品的质量和生产效率。

需求详情

需求背景随着半导体产业的快速发展，对半导体制造设备的精度和可靠性提出了更高的要求。气体供应系统作为半导体制造过程中的关键环节，直接影响到产品的质量和生产效率。然而，目前国内半导体设备供气控制系统大多依赖进口，不仅价格昂贵，而且在售后服务和技术支持方面存在诸多不便。我司旨在开发一套具有自主知识产权的供气控制系统，以满足半导体制造过程中对气体供应的高精度、高可靠性和高自动化程度的需求。为实现这一目标，公司现通过“揭榜挂帅”方式，寻找具备PLC编程和界面开发能力的科研团队或机构，共同攻克技术难题，推动产品的研发与应用。二、技术要求及指标（一）PLC编程 目标内容：开发一套基于西门子S7-1500 PLC的供气控制系统程序，实现对气体供应过程的精准控制，包括气体流量、压力、阀门开关等参数的实时监控与调节。 核心指标：实现气体流量控制精度达到±0.5%，压力控制精度达到 ±0.2%。 系统响应时间小于0.1秒，确保工艺过程的实时性和稳定性。程序具备故障诊断功能，能够在异常情况下及时报警并采取安全措施。系统具备良好的扩展性和兼容性，能够适应不同规格的供气系统和工艺需求。 （二）界面开发 目标内容：采用Proface触摸屏开发供气控制系统的交互界面，实现用户对供气过程的直观操作与监控，提供良好的用户体验。核心指标： 界面设计简洁直观，操作便捷，支持多点触控功能。 实时显示气体流量、压力、阀门状态等关键参数，数据更新频率不低于 1 次/秒。 支持动态缩放、多画面切换，能够适应不同尺寸的触摸屏设备。 界面具备用户权限管理功能，不同级别的用户可访问不同的操作界面和功能模块。