概述

8～12寸晶圆湿法清洗的技术

需求详情

8～12寸晶圆湿法清洗的技术（指在材料端的衬底片和抛光片）。第一点:重点在于6～8寸最终清洗机（RCA无卡塞清洗技术，清洁度≤0.16纳米。）第二点:8～12寸单片清洗机，重点在于腔内需要药液清洗（1号液，氢氟酸，硫酸等），设备在高速旋转清洗时，如何解决腔体密封问题？否则腔体旋转装置被腐蚀。8～12寸晶圆湿法清洗的技术（如：单片清洗、槽式清洗、边缘刻蚀、背面清洗、马兰戈尼干燥等）