概述
合作研发和技术融资
需求详情
突破国外的限制封锁,实现多款粉末型ALD装备全流程的自主设计开发:间歇型的“清原一号”,采取模块化设计、兼顾手动调试和自动运行模式,在非真空条件下可实现精准原子级薄膜沉积。根据处理量可分为多个产品系列,处理量从克级到公斤级,且主要技术指标达到全球主流水平;连续型的“进原一号”ALD装备采用空间动态式设计,有望成为国内或全球首台能真正实现粉末连续化ALD薄膜沉积的装备,从而大幅提升生产效率。期待有兴趣团队合作研发和技术融资
已过期:截止至2026-04-02
金额:5000万元-1000000万元