晶元湿法加工清洗设备的性能改善及单晶元提取手臂的性能改善
概述
谷微半导体科技(江苏)有限公司是一家半导体科技领域内集研发及生产型 的高科技型公司。公司主营业务:研发及制造半导体流体精密控制系统、半 导体芯片制造测试及湿法制成设备、翻新及技术服务类的综合型企业。公司自主开发SST湿法旋转喷淋去胶机、SRD产品等产品,目前对产品性能改善及配件自主化需求迫切。
需求详情
1、单晶圆清洗设备提高清洗能力及效率的同时,减少硫酸的使用量,有效降低生产成本。如果有新的清洗技术,也愿意尝试使用。可配6腔体,8腔体和12腔体,产能需求,具有双面清洗的能力,最多可配至5种清洗药液,如:DHF, DSP+, f-DIW, FOM, SC1, SC2, DIO3, ST250, EKC580, NE111, IPA或配方药液;集成式药液供给模块可回收药液,低COO。2、电镀铜设备脉冲局部电镀技术、适用于超薄种子层、高产能、独立模块设计、低耗材成本COC和运行成本COO、设备应用于300毫米晶圆、最好可配至3个Load Port、最好可配置4个电镀腔体配备脉冲局部电镀功能、最好可配至4个清洗腔体、最好可配至8个退火腔体、电镀均一性: WIWNU <1.5%、WTWNU<1.5%。
已过期:截止至2023-12-31
金额:1万元-20万元