概述

公司的半导体超临界清洗设备可以解决传统技术清洁度不足、芯片破损率高、运行效率低、成本高和环境污染物高的问题，可应用于晶圆清洗、薄膜沉积、光阻去除、粒子去除、干燥工程等制程。希望在目前基础上，进行相关设备产品的合作开发，进行成果转化拓展市场。