一种基于分子动力学模拟的光刻材料显影液的筛选方法
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一种基于分子动力学模拟的光刻材料显影液的筛选方法
申请号:
CN202410760155
申请日期:
2024-06-13
公开号:
CN118658537A
公开日期:
2024-09-17
类型:
发明专利
摘要
本发明公开一种基于分子动力学模拟的光刻材料显影液的筛选方法。本发明将Hansen溶解度参数、二组分溶解度参数和序参数进行结合,可以快速从溶剂库中筛选出适合光刻材料显影液的溶剂范围,降低显影液筛选过程中的试错成本,加快光刻材料的研发进度。该筛选方法并不限制光刻材料的分子结构,普适性强,尤其对于新合成的光刻材料的显影液筛选效果更加明显,可应用于多种光刻材料的显影液筛选过程。
技术关键词
光刻材料
溶解度参数
分子模型
筛选方法
显影液
轨迹
力场参数
气相
数据
数值
常压
坐标
颜色