一种氧化钨基同质结光电忆阻器的制备及网络入侵检测方法

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一种氧化钨基同质结光电忆阻器的制备及网络入侵检测方法
申请号:CN202410761359
申请日期:2024-06-13
公开号:CN118574506A
公开日期:2024-08-30
类型:发明专利
摘要
本发明涉及了一种氧化钨基同质结光电忆阻器的制备及网络入侵检测方法。其中氧化钨基同质结光电忆阻器的制备方法包括以下步骤:氧化铟锡经清洗后得到底电极;氧化钨靶在贫氧环境下通过射频磁控溅射在底部电极上得到贫氧氧化钨薄膜;氧化钨靶在富氧环境下通过射频磁控溅射在贫氧氧化钨薄膜上得到富氧氧化钨薄膜;银靶通过直流磁控溅射得到银顶电极。此器件中氧化钨贫氧层和氧化钨富氧层因能带差异形成同质结,在同质结和与持续光电效应的作用下,器件在光电信号调制下可以实现基本的突触行为。基于器件的光电突触性能,本发明设计了一种网络入侵检测方法,包括数据预处理和图像分类单元,为网络安全和实时监控领域提供了新的视角和工具。
技术关键词
网络入侵检测方法 氧化钨薄膜 磁控溅射沉积 光电 忆阻器 构建卷积神经网络 氧化铟锡玻璃 卷积神经网络模型 图像 数据 银靶 射频 电极 信号调制 处理单元 视角