磁场发生装置、磁粒子成像系统及方法

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磁场发生装置、磁粒子成像系统及方法
申请号:CN202410775892
申请日期:2024-06-17
公开号:CN118625229A
公开日期:2024-09-10
类型:发明专利
摘要
本发明涉及磁粒子成像技术领域,公开了一种磁场发生装置、磁粒子成像系统及方法。其中,该装置包括:磁场发生模块、实时反馈模块、控制模块及数据处理模块。磁场发生模块包括多磁极选择场线圈,多磁极选择场线圈用于通电后产生初始磁场;实时反馈模块用于实时监测磁场分布信息;控制模块用于根据预设成像参数和磁场分布信息,调整通过磁场发生模块包括的多个线圈的目标电流;数据处理模块用于对初始电流信号进行功率放大和滤波处理,得到目标电流信号;以及用于将目标电流信号发送至多个线圈。通过实施本发明技术方案,通过精确控制和调整磁场强度、方向以及磁性纳米粒子的响应,实现了对操作中不可避免的微小移动和姿态变化的实时补偿。
技术关键词
磁粒子成像系统 数据处理模块 控制模块 电流 状态空间模型 信号 现场可编程门阵列 线圈阵列 接收线圈 双核处理器 反馈控制器 磁极 模块通信 图像处理模型 磁性纳米粒子
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