超表面光学器件及其设计方法、装置、计算机设备及介质

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超表面光学器件及其设计方法、装置、计算机设备及介质
申请号:CN202410813375
申请日期:2024-06-21
公开号:CN118798035A
公开日期:2024-10-18
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种超表面光学器件及其设计方法,其中,设计方法包括:获取待设计超表面光学器件的目标远场图像;将目标远场图像输入超表面光学器件设计模型中,输出待设计超表面光学器件的纳米结构单元的预测配置参数;超表面光学器件设计模型包括:概率分析子模型、全连接条件随机场子模型和配置参数确定子模型,通过依次获取目标远场图像的概率映射图,并以概率映射图和目标远场图像的每个像素点的位置信息和远场特性信息,获取待设计超表面光学器件的预测近场图像;进而预测纳米结构单元的配置参数。该设计方法超越了传统的数值设计方法和仅依靠神经网络的设计方法,可有效提高超表面光学器件的设计精度,满足高性能光学器件的设计要求。
技术关键词
光学器件 超表面 纳米结构单元 像素点 图像 参数 条件随机场模型 高性能光学 光学系统 光强 样本 计算机存储介质 处理器 计算机设备 输出模块 可读存储介质 存储器 电子设备 数值