GaN HEMT芯片

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GaN HEMT芯片
申请号:CN202410927900
申请日期:2024-07-11
公开号:CN118866954A
公开日期:2024-10-29
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种GaN HEMT芯片,包括外延层以及设于外延层上的隔绝层,隔绝层内设有间隔设置的若干栅极延伸部、若干漏极延伸部以及若干源极延伸部,栅极延伸部的上表面、漏极延伸部的上表面以及源极延伸部的上表面自隔绝层的上表面露出;漏极延伸部上设有向上延伸的至少一个绝缘凸起部,每个漏极延伸部以及至少一个绝缘凸起部上均覆盖有漏极导线部以形成若干漏极导线部,每个源极延伸部上均覆盖有源极导线部以形成若干源极导线部,每个栅极延伸部上均覆盖有栅极导线部以形成若干栅极导线部。本发明通过在漏极延伸部上设有向上延伸的至少一个绝缘凸起部并在漏极延伸部和绝缘凸起部上覆盖漏极导线部,从而加长漏极导线部的长度,使得GaN HEMT芯片能承受更大的电流。
技术关键词
导线 绝缘 导电柱 氮化镓层 栅极焊盘 加宽 芯片 源极焊盘 外延 纳米 三氧化二铝 长条状 尺寸 二氧化硅 氮化硅 线路 电子 圆台