一种曲面抛光轨迹自适应生成方法、装置及可读存储介质
申请号:CN202410980482
申请日期:2024-07-22
公开号:CN118940404A
公开日期:2024-11-12
类型:发明专利
摘要
本发明属于抛光轨迹规划技术领域,涉及一种曲面抛光轨迹自适应生成方法、装置及可读存储介质;对待加工曲面离散化得到网格模型,提取网格模型中每个三角形网格顶点坐标;将每个三角形网格映射至二维平面,得到对应的目标三角形网格;在二维平面上进行轨迹规划得到初始抛光轨迹,根据每个平面轨迹点所在的目标三角形网格与其对应的三角形网格之间的映射关系,求解平面轨迹点在网格模型上的空间位置,得到曲面轨迹点;对于每个曲面轨迹点,均选取对应的基准点,对该曲面轨迹点进行调整,直到该曲面轨迹点和基准点之间的抛光去除残留高度小于等于预设残留误差,得到对应的目标曲面轨迹点;基于所有目标曲面轨迹点得到待加工曲面的目标抛光轨迹。
技术关键词
三角形
网格模型
曲面抛光
残留误差
顶点
坐标
生成方法
有效性
轮廓
网格角度
矩阵
容器
轨迹规划技术
重构
索引
参数