摘要
本发明公开一种具备抗反射结构的微显示芯片及其制备方法,涉及半导体技术领域。该微显示芯片的表面包括:发光区、非发光区以及IO区;所述发光区上设置有发光像素;所述非发光区上设置有抗反射结构,所述抗反射结构与所述发光像素在所述微显示芯片的表面上呈现平铺设置;其中,所述抗反射结构包括多个抗反射单元,多个抗反射单元朝远离所述微显示芯片的表面的方向凸起,以使得所述抗反射结构具有凹凸不平的表面,所述抗反射结构用于对入射的反射光线进行漫反射,所述反射光线是所述发光区的发光像素发出光线后,经与所述微显示芯片相对设置的成像端反射所形成的光线。从而通过抗反射结构本身的结构特性,解决设备成像端的眩光、重影问题。