一种用于面料印染的荧光沾污系统和方法

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一种用于面料印染的荧光沾污系统和方法
申请号:CN202411050788
申请日期:2024-08-01
公开号:CN119006391B
公开日期:2025-06-20
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种用于面料印染的荧光沾污系统和方法,属于纺织印染技术领域。本发明解决了现有方法易导致检测人员吸入有害物质的问题,通过面阵相机获取当前面料印染荧光沾污影像图片,对图片进行区域划分及降噪处理;采用Sobe l算法提取出面料印染荧光沾污影像图片中荧光沾污区域边缘像素,并计算出面料印染荧光沾污影像图片的总体面积和荧光沾污区域的实际面积;判断荧光沾污区域占据面料印染荧光沾污影像图片的总体面积的比例及其所属等级,并在超出沾污警示阈值的情况下发出警示音提醒客户端及时解决问题,从而避免检测人员长期处于检测车间所具有的弊端,优化了现有荧光沾污方法的实用性与安全性。
技术关键词
荧光 图片 人机交互平台 面阵相机 影像处理单元 像素点 检测面料 5G通讯技术 动态场景 图像灰度值 变量 阵列 模块 活动特征 客户端 边缘计算方法