一种版画风格迁移模型的构建方法

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一种版画风格迁移模型的构建方法
申请号:CN202411053966
申请日期:2024-08-02
公开号:CN118967431A
公开日期:2024-11-15
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种版画风格迁移模型的构建方法,包括以下步骤:建立版画风格迁移模型,版画风格迁移模型为HFFS‑GAN生成对抗网络,HFFS‑GAN生成对抗网络具有生成器和判别器,其中,生成器具有编码器、自适应特征融合网络和解码器;编码器用于提取输入图像的空间域特征,通过高频特征抑制模块获取频域特征并处理;自适应特征融合网络利用多头注意力机制对编码器提取到的频域特征和空间域特征进行高效融合,得到融合图像并馈入解码器生成版画风格图像;判别器用于通过损失函数对版画风格迁移模型进行训练,提高生成版画风格图像的质量和对原始图像内容的忠实度。
技术关键词
风格 频域特征 特征融合网络 多头注意力机制 高频特征 生成对抗网络 编码器 原始图像内容 抑制算法 解码器 特征提取器 木刻版画 训练集 重构 离散余弦 轮廓特征 残差网络