一种半导体晶圆磨削监测系统及方法
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一种半导体晶圆磨削监测系统及方法
申请号:
CN202411057843
申请日期:
2024-08-02
公开号:
CN118752408A
公开日期:
2024-10-11
类型:
发明专利
摘要
本专利申请公开了一种半导体晶圆磨削监测系统及方法,属于半导体材料加工技术领域,为了提高晶圆产品电学性能,采用了位移传感器,用于检测晶圆空间位置姿态;压力传感器,用于监测晶圆所受压力;温度传感器,用于检测晶圆温度;流速传感器,用于检测磨削液的流速;位移传感器、压力传感器、温度传感器和流速传感器均与控制器电连接,控制器根据各传感器采集到的信息动态调整加工参数。确保晶圆在较佳状态下完成倒角加工,达成优异的电学性能。
技术关键词
半导体晶圆
监测系统
流速传感器
位移传感器
检测晶圆温度
压力传感器
温度传感器
数学模型
控制器
流量传感器
参数
半导体材料
磨削液
监测方法
倒角机
动态
数据