模型文件的生成方法、装置、设备、存储介质及程序产品
申请号:CN202411380819
申请日期:2024-09-30
公开号:CN119358499A
公开日期:2025-01-24
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种模型文件的生成方法、装置、设备、存储介质及程序产品,涉及刻蚀技术领域。该模型文件的生成方法包括:获取芯片版图中多个目标位置点各自对应的目标负载效应数据;根据各目标位置点的坐标位置以及与目标刻蚀负载效应对应的范围划分策略,分别得到与各目标位置点各自对应的多个区域范围;针对各目标位置点,分别计算目标位置点对应的区域范围的区域密度;根据各目标位置点的目标负载效应数据以及对应的各区域范围的区域密度,分别确定各目标位置点受目标刻蚀负载效应的目标影响区域;根据各目标位置点对应的目标影响区域,生成与目标刻蚀负载效应对应的模型文件。
技术关键词
效应
生成方法
计算机程序指令
版图
密度
芯片
计算机程序产品
偏差
网格
策略
电子设备
可读存储介质
坐标
尺寸
数据获取模块
刻蚀技术
处理器
生成装置
基准