键合方法及键合结构
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键合方法及键合结构
申请号:
CN202411489995
申请日期:
2024-10-23
公开号:
CN119400713B
公开日期:
2025-09-26
类型:
发明专利
摘要
本公开实施例涉及半导体领域,提供了一种键合方法,包括:提供晶圆,其中,晶圆包括多个第一芯片和多个第二芯片;在晶圆上形成多个接触插塞,接触插塞与晶圆的第一芯片和第二芯片电连接;在晶圆的第一芯片上形成伪钝化层,在除第一芯片外的区域形成钝化层,伪钝化层和钝化层共同覆盖多个接触插塞;图案化钝化层,以暴露部分接触插塞的表面,并在图案化后的钝化层内形成键合焊盘,键合焊盘覆盖部分接触插塞的表面,并通过接触插塞与第二芯片电连接;将至少两个晶圆进行混合键合,以形成键合结构。
技术关键词
芯片堆叠结构
键合焊盘
键合方法
键合结构
图案化钝化层
晶圆表面沉积
沟槽
碳化硅
导电
半导体
激光