蚀刻分析系统及蚀刻分析方法
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蚀刻分析系统及蚀刻分析方法
申请号:
CN202411500228
申请日期:
2024-10-25
公开号:
CN119893860A
公开日期:
2025-04-25
类型:
发明专利
摘要
本公开提供一种蚀刻分析系统及蚀刻分析方法。所述蚀刻分析系统包括一测量装置及一处理装置。测量装置被配置以测量一基板,并取得基板的一第一区域的一图像信息。处理装置电性连接测量装置。处理装置被配置以根据图像信息产生一测量线路信息,并被配置以根据测量线路信息调整用于一蚀刻装置的一运行参数或一线路布局参数。
技术关键词
蚀刻装置
分析系统
图像获取装置
分析方法
线路
人工智能模型
位移感测装置
参数
布局
蚀刻工艺
基板
下线
因子
线段
气体
强度
射频
尺寸