多频调制等离子表面处理方法与系统

本发明公开了多频调制等离子表面处理方法与系统，涉及半导体制造技术领域；系统包括采集模块、处理模块和控制模块；采集模块负责获取目标等离子体的蚀刻信息及其特性数据，如光学、电学和气体成分数据，并将这些数据对齐至统一的时间轴；处理模块通过预设的机器学习模型分析这些数据，生成工艺状态评估信息，并利用遗传算法基于这些信息生成目标等离子体的第一工艺参数；控制模块则根据这些参数对等离子体源进行多频调制，优化等离子体的物理属性；本发明通过优化多频调制等离子表面处理过程中的多源数据同步性，以及等离子体的物理属性以提升半导体蚀刻效果。