基于ADMM的幅相误差和位置误差联合校正方法及系统
申请号:CN202411512274
申请日期:2024-10-28
公开号:CN119247293A
公开日期:2025-01-03
类型:发明专利
摘要
本发明公开了基于ADMM的幅相误差和位置误差联合校正方法及系统,根据Capon测向原理建立雷达阵列位置误差校正模型,所述雷达阵列位置误差校正模型的约束包括设置雷达阵列的阵元位置误差约束、相位误差上下限约束和幅相误差总能量约束;对雷达阵列位置误差校正模型使用ADMM算法进行求解,得到校正后的雷达阵列位置误差和校正后的雷达阵列幅相误差。基于ADMM的幅相和位置误差联合校正算法,通过对幅相误差和位置误差施加能量和偏离阈值约束,最大化Capon输出功率以实现误差校正,既适用于单校正源场景也适用于多校正源场景。
技术关键词
位置误差校正
联合校正方法
ADMM算法
雷达
阵列幅相误差
相位误差
拉格朗日
变量
幅度误差
可读存储介质
校正误差
校正算法
校正系统
天线
处理器