一种检测光学环境污染沉积的传感器探头的制备方法
# 热门搜索 #
大模型
人工智能
openai
融资
chatGPT
AITNT公众号
AITNT APP
AITNT交流群
搜索
首页
AI资讯
AI技术研报
AI监管政策
AI产品测评
AI商业项目
AI产品热榜
AI专利库
寻求报道
一种检测光学环境污染沉积的传感器探头的制备方法
申请号:
CN202411550908
申请日期:
2024-11-01
公开号:
CN119394840A
公开日期:
2025-02-07
类型:
发明专利
摘要
本发明公开了一种检测光学环境污染沉积的传感器探头的制备方法,属于污染检测技术领域,包括:将二氧化硅胶体以提拉镀膜的方式涂覆在QCM芯片表面,得到表面带二氧化硅膜的传感器探头,通过传感器探头检测沉积在二氧化硅膜表面的环境污染物面质量密度,实现光学环境有机污染物沉积的检测。本发明制备的传感器探头对分子污染灵敏度高、稳定性好,可以为光学系统内的光学元件损伤进行预警。
技术关键词
传感器探头
二氧化硅胶体
QCM芯片
二氧化硅膜
提拉镀膜
六甲基二硅胺烷
污染检测技术
百级洁净室
中心工作频率
氨水
镀膜夹具
正硅酸乙酯
超声波清洗
密度
涂覆
有机污染
验证方法