一种跟踪目标轨迹优化处理方法及装置
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一种跟踪目标轨迹优化处理方法及装置
申请号:
CN202411606295
申请日期:
2024-11-12
公开号:
CN119693422A
公开日期:
2025-03-25
类型:
发明专利
摘要
本发明提供一种跟踪目标轨迹优化处理方法及装置,该方法包括:获取激光雷达采集的数据帧中跟踪对象的目标点云;对所述目标点云进行重建处理,获得重建的点云模型;基于所述点云模型进行目标框尺寸估计处理,获得目标尺寸的目标框;基于所述目标尺寸的目标框进行跟踪目标轨迹优化处理,得到优化后的目标轨迹。本发明提供的跟踪目标轨迹优化处理方法,能够有效提高目标跟踪和标注的准确性和可靠性,从而提升了跟踪目标轨迹自动标注效果。
技术关键词
跟踪目标轨迹
激光雷达
坐标系
点云模型
运动补偿
尺寸
非暂态计算机可读存储介质
处理单元
数据
处理器
对象
计算机程序产品
存储器
电子设备
时间段