一种紫外非线性光学晶体材料及其制备方法和应用

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一种紫外非线性光学晶体材料及其制备方法和应用
申请号:CN202411645526
申请日期:2024-11-18
公开号:CN119553371B
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本发明属于非线性光学材料领域,涉及一种紫外非线性光学晶体材料及其制备方法和应用。该紫外非线性光学晶体材料的晶体化学式为Zn(C5H4NO)2,C5H4NO代表4‑羟基吡啶,4‑羟基吡啶与Zn2+通过配位键结合而形成[ZnN2O2]四面体;晶体属于正交晶系,空间群为Fdd2。该紫外非线性光学晶体材料的带隙为4.40eV,二次谐波发生高达13.6×KDP,在532nm波长处的双折射率Δn=0.073,在1064nm波长处的双折射率Δn=0.074,且呈现出光致发光特性,在波长为330‑420nm的激发光下具有寿命长达558ms的磷光和肉眼可见、长达5s的蓝色余辉。此外,该紫外非线性光学晶体材料具有很强的耐水性、热稳定性和环境稳定性,在非线性光学材料领域具有良好的应用前景。
技术关键词
非线性光学材料 吡啶 波长 晶体 化学式 二维层 半导体芯片 光致发光 蓝色 激光 高密度 代表 保温 光刻 谐波 军事 成像 通讯