掩膜优化及热点区域检测集成的版图理解模型装置及应用

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掩膜优化及热点区域检测集成的版图理解模型装置及应用
申请号:CN202411683124
申请日期:2024-11-22
公开号:CN119741686A
公开日期:2025-04-01
类型:发明专利
摘要
掩膜优化及热点区域检测集成的版图理解模型装置及应用,属于半导体领域,技术要点是模型包括LUM编码器,其输入包括版图图块以及类型,将版图图块映射到潜在空间进行潜在特征表示;以及LUM解码器,其输入包括LUM编码器输出的潜在特征表示及类型,根据类型解码并输出目标图像或优化掩膜以及版图图形的热点区域检测分类,效果是在各种版图理解任务上实现令人满意的性能。
技术关键词
模型装置 解码器 版图图形 多层感知器 编码器 掩膜 热点 金字塔池化模块 微调方法 注意力机制 输出特征 图像 分区 半导体 像素 矩阵 阶段