一种纳米孔测序高分子膜及成膜方法

本发明涉及纳米孔测序领域，具体公开了一种纳米孔测序高分子膜及成膜方法，该高分子膜为单层分子膜，由嵌段聚合物形成，所述嵌段聚合物包括亲水端聚合物和疏水端聚合物，所述亲水端聚合物的聚合度在4‑6之间，所述疏水端聚合物的聚合度在18‑33之间；该高分子膜的制备方法包括以下步骤：S1、将第一缓冲溶液加入到芯片的微结构中，将溶有嵌段聚合物的非极性溶剂通入微结构的流道，推走多余的第一缓冲溶液形成高分子膜的下界面；S2、将气体通入微结构中推走多余的非极性溶剂形成高分子膜的上界面；S3、加入第二缓冲溶液排净上层气体，等待嵌段聚合物排列稳定后即在芯片的微结构表面形成高分子膜。通过本发明的成膜工艺成膜易操作，破膜率低，具有较好的稳定性和电压耐受性。