基于机器学习和光散射法的粒子粒径分布测量方法及系统

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基于机器学习和光散射法的粒子粒径分布测量方法及系统
申请号:CN202411700263
申请日期:2024-11-26
公开号:CN119202625B
公开日期:2025-04-01
类型:发明专利
摘要
本发明涉及粒子粒径分布测量领域,尤其涉及提供一种基于机器学习和光散射法的粒子粒径分布测量方法及系统,包括利用光源照射待测粒子样品,同时利用多角度散射光检测器采集不同散射角度和不同波长的光散射强度数据;构建多模态深度学习模型,并结合支持向量机模型和随机森林模型形成集成学习架构;将预处理后的多波长光散射强度数据输入训练好的集成学习架构,得到待测粒子样本的初步粒径分布结果;基于改进的米氏散射理论,构建考虑粒子形状、折射率、表面粗糙度和内部结构的高精度理论模型;采用改进的贝叶斯优化算法,通过最小化理论光散射强度与实际采集的光散射强度之间的误差,对初步粒径分布结果进行优化调整,得到修正后的粒径分布结果。
技术关键词
粒径分布测量方法 支持向量机模型 随机森林模型 多模态深度学习 散射光检测器 粒子 局部二值模式特征 卷积神经网络模块 强度 多尺度径向基函数 理论 深度学习模型 数据 多头注意力机制 长短期记忆网络 多角度 高维特征向量 光源模组 惩罚策略