码盘测量数据的分析方法

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码盘测量数据的分析方法
申请号:CN202411708570
申请日期:2024-11-27
公开号:CN119197604B
公开日期:2025-04-22
类型:发明专利
摘要
本申请提供码盘测量数据的分析方法,涉及信息技术领域,包括:获取码盘光栅区与非光栅区的表面粗糙度测量数据,针对表面粗糙度突变区域,采用数字图像处理对测量数据进行分割,得到光栅区与非光栅区的粗糙度分布图;根据光栅区与非光栅区的粗糙度分布图,构建粗糙度突变区域的三维几何模型,通过有限元分析方法,计算保护膜在粗糙度突变区域的应力分布状态,获得保护膜的应力分布云图;针对不同深度光栅之间的过渡带,采用扫描电镜获取过渡带的微观形貌特征,通过图像处理算法提取过渡带的宽度参数,建立过渡带宽度与光栅深度的关联模型。为码盘保护膜贴合工艺优化提供科学依据,具有重要的工程应用价值。
技术关键词
光栅 三次样条插值 有限元分析方法 应力分布状态 数字图像处理 图像处理算法 表面形貌数据 变量 形貌特征 保护膜材料 粗糙度参数 数值模拟方法 码盘 扫描电镜 网格