一种优化光刻胶模型一致性的方法、装置、电子设备、存储介质

本发明涉及模型优化领域，公开了一种优化光刻胶模型一致性的方法、装置、电子设备、存储介质，包括步骤S11：当对光刻胶模型中的模拟项参数进行当前代搜索和仿真后，对与光刻胶模型对应的测试图形进行移位；步骤S12：确定在测试图形移位后与预设采样点处的关键尺寸对应的光刻胶参数密度差；步骤S13：根据光刻胶参数密度差与预设密度差阈值的关系，确定代价函数的函数值；步骤S14：对光刻胶模型中的模拟项参数进行下一代的搜索和仿真，并进入步骤S11，直至光刻胶模型中的模拟项参数进行搜索和仿真的代数等于预设代数阈值；步骤S15：确定所有函数值中的最小值，将最小的函数值作为光刻胶优化最终结果，可以提升光刻胶模型一致性。