一种多物理场作用下半导体器件热力特性仿真方法

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一种多物理场作用下半导体器件热力特性仿真方法
申请号:CN202411712242
申请日期:2024-11-27
公开号:CN119849425B
公开日期:2025-11-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种多物理场作用下半导体器件热力特性仿真方法,涉及半导体仿真领域,通过获取半导体器件的工艺结构参数和材料参数,在仿真软件中构建二位元胞结构模型仿真模拟得到热源,然后根据半导体器件结构特点构建半导体器件的三维多栅指结构模型,将仿真对象从二维元胞结构扩展到更加复杂的三维多栅指结构,再将二维元胞结构仿真模拟得到的热源导入三维模型中进行多物理场仿真模拟,并对多物理场仿真结果进行热力学分析。通过本发明能够模拟热场、应力场等多个物理场的相互作用,用于复杂结构和环境下的多场耦合分析,可以更全面地分析半导体器件在多物理场作用下的热力特性,为优化器件设计、提升其在高压、高温和辐射环境下的性能和可靠性提供更为准确的仿真依据。
技术关键词
特性仿真方法 元胞结构 物理 仿真模型 有限元仿真软件 热传导模块 单粒子烧毁效应 分析半导体器件 多场耦合分析 半导体器件结构 曲线 关键工艺参数 热源 三维模型 应力场