一种基于2+1相移算法的高质量二值条纹的生成方法

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一种基于2+1相移算法的高质量二值条纹的生成方法
申请号:CN202411877357
申请日期:2024-12-19
公开号:CN119741428B
公开日期:2025-11-21
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于2+1相移算法的高质量二值条纹的生成方法,包括:1.制作一张二值条纹图案,并截取部分作为补丁;2.对补丁进行强度优化预处理;3.对预优化后的补丁进行综合优化处理,以减少2+1相移算法引入的直流分量误差;4.改变补丁的尺寸,重复步骤2和步骤3;5.选择性能最优的补丁,并将其拼成完整的条纹图案组。在二值离焦技术下,本发明通过减少2+1相移算法引入的直流分量误差,可以在不同的离焦程度下得到更好的相位质量,提高系统的测量性能。
技术关键词
条纹图案 补丁 相移算法 像素点 生成方法 误差 强度 滤波 抖动方法 周期性 生成白光 可读存储介质 平铺 处理器 存储器 计算机 对比度