校正光场不均匀的关联成像方法及关联成像系统

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校正光场不均匀的关联成像方法及关联成像系统
申请号:CN202411915705
申请日期:2024-12-24
公开号:CN119758370B
公开日期:2025-12-05
类型:发明专利
摘要
本发明适用于关联成像技术领域,提供了一种校正光场不均匀的关联成像方法及关联成像系统,所述方法包括:发射探测光照射向待测目标;接收所述探测光照射所述待测目标后产生的目标光,并探测接收的所述目标光的光强度值;通过调制件对所述探测光或目标光进行调制;根据所述调制件的调制信息和所述目标光的光强度值重构待测目标的像;根据相关特征信息校正所述待测目标的像;本发明根据对探测待测目标前的探测光或发射散斑的预标定信息,校正因发射光光场不均匀造成重构待测目标的像的偏差,提高重构待测目标的像的结果准确性,且没有提升成像算法复杂度,具有广泛的应用场景。
技术关键词
关联成像系统 关联成像方法 探测光 发射装置 信息处理单元 数字微镜阵列 校正单元 散斑 重构 关联算法 关联成像技术 校正模块 探测器 空间光调制器 成像算法 通讯 接收件 光强度