一种用于压力传感器的压力控制系统及方法
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一种用于压力传感器的压力控制系统及方法
申请号:
CN202411930666
申请日期:
2024-12-26
公开号:
CN119852199B
公开日期:
2025-09-02
类型:
发明专利
摘要
本发明涉及数据监测技术领域,是一种用于压力传感器的压力控制系统及方法,具体方法包括:根据目标刻蚀槽型建立数字孪生模型,并对数字孪生模型进行刻蚀监测单位区域的划分;实时采集待刻蚀半导体基板上各个刻蚀凹槽的刻蚀状态数据,获取各个凹槽深度层的刻蚀效率指数和刻蚀质量指数;根据刻蚀效率指数和刻蚀质量指数,动态筛选待调节的刻蚀监测单位区域,并控制压力传感器执行压力控制策略;本发明解决了现有技术中,刻蚀精度不足和刻蚀效率低下的问题。
技术关键词
数字孪生模型
压力控制方法
刻蚀半导体
压力传感器
指数
压力控制系统
电子扫描设备
刻蚀气体
控制策略
偏差
表面形貌数据
索引
轮廓数据
数据采集模块
梯形凹槽
基线
数据监测技术