摘要
本申请公开了一种套刻标记测量区域生成方法及相关装置,涉及芯片制造技术领域,在获取套刻标记图像中的套刻标记中心之后,根据套刻标记中心分别生成水平方向和垂直方向的边缘点提取区域,通过分别在水平方向和垂直方向的边缘点提取区域内对套刻标记图像进行灰度投影得到灰度曲线,计算灰度曲线对应的梯度曲线,根据梯度曲线中的梯度极值点准确提取边缘点,并标记内层边缘点和外层边缘点,从而根据水平方向和垂直方向的内层边缘点自动生成内层测量区域,并根据水平方向和垂直方向的外层边缘点自动生成外层测量区域,实现根据套刻标记自适应生成测量区域,有效提升了测量区域绘制效率和绘制精度。