摘要
本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种图形化复合衬底及其制备方法、LED芯片。制备方法包括:提供蓝宝石衬底;在蓝宝石衬底上形成若干间隔排布的光刻胶凸起;对蓝宝石衬底进行刻蚀,使蓝宝石衬底在相邻的光刻胶凸起之间形成凹槽;在蓝宝石衬底上生长二氧化硅层;在二氧化硅层上形成若干间隔排布的光刻胶凸柱,且光刻胶凸柱与凹槽周期性交错排布;对蓝宝石衬底进行刻蚀,使凹槽外露,并使二氧化硅层在蓝宝石衬底表面形成凸起结构,以形成表面呈凸起结构与凹槽周期性交错排布的图形化复合衬底,且相邻凸起结构与凹槽之间设有间隔,制得的图形化复合衬底清晰度及精度更高,并且表面呈凸起结构与凹槽周期性间隔、交错排布,能够更有效地减少外延材料的位错和缺陷,提高外延材料的质量,提升发光效率。