一种基于理论光谱与量测光谱的金属薄膜测量方法

本发明公开了一种基于理论光谱与量测光谱的金属薄膜测量方法，涉及薄膜光学测量技术领域，包括在预设波长范围内，采用椭偏仪对待测金属薄膜样品进行光谱扫描，获取量测光谱数据；构建基于三层膜系结构的理论光谱模型，设定结构参数初始值；将结构参数初始值代入所述理论光谱模型，生成理论光谱数据；采用多策略并行的全局优化算法对结构参数进行迭代调整，当满足第一收敛准则时终止迭代过程，输出最优结构参数；基于最优结构参数，计算并输出金属薄膜的实际膜厚、折射率和消光系数。本发明构建了结合德鲁德‑洛伦兹色散模型、有效介质近似理论和传递矩阵法的理论光谱模型，实现了金属薄膜光学参数的高精度表征，有效提高了测量精度。