一种基于UNet++的多尺度芯片缺陷尺寸测量方法

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一种基于UNet++的多尺度芯片缺陷尺寸测量方法
申请号:CN202411973554
申请日期:2024-12-30
公开号:CN119723101B
公开日期:2025-09-23
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于UNet++的多尺度芯片缺陷尺寸测量方法,构建多类别、多尺度芯片表面缺陷图像语义分割数据集,训练UNet++语义分割网络得到分割模型;将芯片表面缺陷图像输入到分割模型中,获取不同尺度特征图,分别输入到基于注意力机制的预测头中,提取分割图像中各类别缺陷的连通域,标注缺陷轮廓和缺陷骨架,将多尺度缺陷特征标注图像输入到多尺度注意力特征融合模块中,在融合后的图像中提取凹陷和污渍的轮廓点集,计算像素级周长、面积和像素级长度;根据像素长度与实际长度比例,将图像缺陷尺寸信息转换为缺陷实际尺寸信息。本发明通过引入注意力机制、多尺度特征融合,有效提高了多尺度芯片缺陷的分割和测量精度。
技术关键词
芯片表面缺陷 缺陷尺寸 测量方法 多尺度 图像语义分割 语义分割模型 注意力机制 语义分割网络 编码器特征 解码器 图像像素 缺陷轮廓 上采样 组合模块