一种防止多通道交叉污染的进样结构及微流控芯片

本实用新型公开了一种防止多通道交叉污染的进样结构及微流控芯片，该进样结构包括在可离心旋转的盘片上依次设置的加样槽、混匀槽、导流流道、分注流道和反应腔，加样槽设置于靠近盘片圆心的区域，导流流道设置于远离盘片圆心的区域；加样槽与混匀槽连通，混匀槽与导流流道连通，导流流道外侧、远离盘片圆心的区域依次设置有复数个分注流道和反应腔，分注流道位于导流流道的顶端，导流流道通过复数个分注流道与对应的反应腔连接；导流流道的深度大于分注流道的深度。本实用新型防止多通道交叉污染的进样结构，通过将导流流道与分注流道设置一定的高度差，减少了交叉污染的风险。