基于CMA-ES的导向自组装光刻引导模版优化方法、导向自组装光刻系统及介质

一种基于CMA‑ES算法的导向自组装光刻引导模版优化方法，本方法通过CMA‑ES算法优化参数化引导模版的几何形状，根据目标孔图形的大小、相对位置反向求解对应的引导模版，以通过自组装形成高精度、无缺陷的孔图形。本发明中的优化方法在整个参数空间搜寻最优解，避免了陷入局部最优值，提高了现有方法的精度；考虑了自组装结构的三维缺陷；可以灵活引入对引导模版几何形状的约束，得到符合可制造性要求的引导模版。本发明适用于基于制图外延法的导向自组装光刻的引导模版图形优化。