光场亚像素视差估计模型及其训练方法、系统、介质及电子设备
申请号:CN202510043822
申请日期:2025-01-10
公开号:CN120070530A
公开日期:2025-05-30
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种光场亚像素视差估计模型及其训练方法、系统、介质及电子设备;所述光场亚像素视差估计模型包括:图像转换模块,用于对光场子孔径图像进行图像转换,获取光场宏像素图像;特征提取模块,用于对光场宏像素图像进行特征提取,获取特征图;代价构建模块,用于对特征图进行亚像素代价构建和注意力增强,获取注意力增强代价体;代价聚合模块,用于对注意力增强代价体进行正则化,获取聚合代价体;视差回归模块,用于对聚合代价体进行视差映射,获取光场子孔径图像对应的预测视差图;预测视差图为光场子孔径图像中的中心子孔径图像对应的视差图;本发明通过设计亚像素代价构建,有效解决了现有光场视差估计中视差标签数量少的问题。
技术关键词
像素
注意力
图像转换模块
特征提取模块
子孔径图像
电子设备
训练系统
切片
输入输出模块
模型训练模块
存储计算机程序
数据获取模块
标签
拉普拉斯
存储器
可读存储介质
处理器